WITec公司的alpha300 A原子力顯微鏡基于研究級光學顯微鏡而設計，是一款可靠、的納米成像系統(tǒng)，同時具有的光學接入、簡易懸臂定位與原子級高分辨率。采用高精度陶瓷掃描臺及樣品臺掃描方式，AFM探針獲得樣品表面形貌圖像。
該AFM采用光學顯微鏡配備相機，有助于高分辨率的樣品挑選與測量。同時觀測樣品與AFM探針非常有利于樣品定位及掃描區(qū)域調整。光學顯微鏡可實現(xiàn)更多的照明及檢測方式，如明暗場，偏光分析及寬場熒光等， 用戶可以進一步挑選感興趣的樣品區(qū)域。用戶只需旋轉物鏡轉盤，就可以在AFM與光學顯微鏡之間輕松切換，依舊保留光學顯微鏡與AFM性能。
關鍵特性
納米尺度的表面表征
橫向分辨率：低至1 nm
深度分辨率：< 0.3 nm
包含多種AFM模式
在空氣與液體中均可使用
的懸臂技術，方便的懸臂交換和對準
精確的TrueScan™控制掃描臺：可選擇的掃描范圍30 x 30 x 20µm3;100 x 100 x 20µm3;或200 x 200 x 20µm3
非破壞性的成像技術
共焦拉曼成像和近場 (SNOM)可在一臺顯微鏡上進行升級
應用實例
FM topography image of a fully developed Magnetic Force Measurement of PC Digital Pulsed Force Mode image of
sternal deposit from a woodlouse (P. scaber). Hard Drive. The measurements were ossilized bacteria. The image s
performed using AC mode technique the different adhesion levels of the
with magnetic tips. sample surface.
AFM模式
接觸模式
樣品掃描時域探針直接接觸，通過懸臂梁的傾斜及角度來記錄表面形貌
AC（TappingTM 輕敲）模式（又稱間歇接觸模式）
抬高模式（Lift ModeTM）
數(shù)字脈沖力模式（DPFM）
磁力顯微鏡（MFM）
測量樣品上磁場的一種非接觸模式
靜電力顯微鏡
測量靜電力顯微鏡的一種非接觸模式
記錄并描繪間歇（輕敲）
模式中的相位偏移信號
納米操縱/壓印
開爾文探針顯微鏡
表面勢測量
橫向力顯微鏡（LFM）
揭示表面摩擦特性的一種接觸模式
化學力顯微鏡（CFM）
測量范德華力等化學相互作用的接觸或間歇模式
其他模式可選
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