內(nèi)置式廢氣排放系統(tǒng)

電子位置感應元控制工作臺自動升降，自動控制反應腔開啟、關(guān)閉

微波合成反應前可預先沖入高壓氮氣，使反應腔達到40-100bar

溫度和壓力傳感器內(nèi)置反應腔體的蓋子上，直接測量反應腔體的溫度和壓力

1500W的微波發(fā)射功率

強大的機械攪拌磁力攪拌系統(tǒng)

同樣的溫度壓力條件下加入不同比例不同種類的反應物，可快速篩查合成條件

高壓提升了溶劑的沸點

密閉式水冷系統(tǒng)，保護反應安全進行，反應結(jié)束后迅速冷卻降溫：控溫精度：±0.1℃，冷卻溫度：5-35℃，

液氮冷卻在線反應監(jiān)控，高溫高壓下實時監(jiān)控反應進行

加氣設計，可進行H2、O2，CO等各種加氣反應

所有參數(shù)和系統(tǒng)設置均可通過控制終端操作