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EVO10 ZEISS鎢燈絲掃描電鏡EVO系列

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蔡司EVO系列模塊化的SEM平臺適用于直觀操作、例行檢測和研究應用EVO系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結合在一起,同時能夠吸引經驗豐富的用戶以及新用戶

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蔡司 EVO 系列

模塊化的 SEM 平臺適用于直觀操作、例行檢測和研究應用

EVO系列將高性能的掃描電鏡和直觀的、友好的用戶界面體驗結合在一起, 同時能夠吸引經驗豐富的用戶以及新用戶。無論是在生命科學, 材料科學, 或例行的工業(yè)質量保證和失效分析領域,憑借廣泛的可選配置, EVO 都可以根據(jù)您的要求量身定制。

> 顯微鏡中心或工業(yè)質量保證實驗室的多功能解決方案

> 不同的真空室大小和可滿足所有應用要求的載物臺選項-甚至是大型工業(yè)零部件樣品

> 使用LaB6燈絲,能夠得到優(yōu)異的圖像質量

> 對不導電和無導電涂層的樣品的成像和分析性能出色

> 可以配置多種分析探測器用于滿足各種顯微分析應用的需求

優(yōu)勢

▲便捷的可用性

SmartSEM Touch可以通過使用您的指尖與其進行交互式工作流程控制。它簡單易學, 大大減少了培訓所付出的努力和成本,甚至新用戶在幾分鐘內也能夠捕捉令人驚嘆的圖像。此用戶界面還支持需要自動化工作流程以執(zhí)行可重復檢查任務的工業(yè)操作員。


▲優(yōu)異的圖像質量

EVO 擅長于對未經處理和沒有導電涂層的樣品獲取高質量的數(shù)據(jù)。EVO 還允許樣品保留其原始狀態(tài), 維持含水和重污染樣品的數(shù)據(jù)質量。此外當成像和微量分析面臨挑戰(zhàn)時,選用LaB6燈絲則能夠給予更好的分辨率、 對比度和信噪比。



▲EVO 能夠與其它設備相關聯(lián)

EVO可以作為半自動、多模式工作流程的一部分,通過重新定位感興趣區(qū)域,并以多種方式收集數(shù)據(jù),形成信息的完整性。將光學和電子顯微鏡圖像合并起來進行材料表征或零件檢驗,或者將 EVO 與蔡司光學顯微鏡相關聯(lián),進行關聯(lián)顆粒度分析。


適合更多用戶操作

對于經驗豐富的以及新手用戶操作都很方便

在實際的實驗室環(huán)境中,SEM 的操作通常是顯微鏡專家的專屬領域。但是對于非專家級用戶來說,操作SEM就變得具有挑戰(zhàn),比如學生、受訓者或質量工程師,他們往往也需要從 SEM獲取數(shù)據(jù)。 EVO 則同時考慮了這兩類用戶的需求,用戶界面選項既能滿足有經驗的顯微鏡專家也能滿足非專業(yè)用戶的操作需要。

▲專家用戶
優(yōu)選用戶界面: SmartSEM

專家用戶可以獲取以及設定高級的成像參數(shù)和分析功能。

SmartSEM: 為有經驗用戶使用的控制界面


▲新手用戶

優(yōu)選用戶界面: SmartSEM Touch

新手用戶可以使用預定義的工作流程和常用的一些參數(shù)-非常適合初學者。

SmartSEM Touch: 是一款在觸摸屏電腦上運行的簡化圖形用戶界面 


智能導航與成像

大大提高樣品的測試效率,以及更多的數(shù)據(jù)產出

  ▲蔡司導航相機

相機可以安裝在倉室前方, 以監(jiān)測樣品與背散射探測器以及物鏡底端之間的相對位置(倉室相機);或安裝在真空室倉門上方 (導航相機), 利用俯視圖查看樣品臺上樣品的擺放位置。此視圖可用于設置從光學顯微鏡圖像中識別出的預定義位置, 并在整個樣品測試過程中輕松導航。


 

   ▲自動化智能成像

EVO實現(xiàn)了對樣品批量自動、無人值守的圖像采集。蔡司自動化智能成像非常適合例行檢測。它使用戶能夠自定義邊界區(qū)域,自動生成所需的視圖或放大倍數(shù)確定的感興趣區(qū)域,并開始自動獲取圖像。自動化智能成像將大大提高樣品的測試效率,以及更多的數(shù)據(jù)產出。


將您的研究提升一個層次

使用六硼化鑭電子發(fā)射器能夠獲得更好的圖像

六硼化鑭陰極相較于傳統(tǒng)的鎢發(fā)夾燈絲所發(fā)射的電子能夠保證您額外所需要的圖像質量。這種優(yōu)勢體現(xiàn)在以下兩個方面:

> 在相等電子探針尺寸 (即分辨率) 下, 有更多探針電流可供使用, 從而使圖像導航和優(yōu)化更容易

> 在相等的探針電流 (信噪比) 下, 光斑直徑要小得多, 從而提高了圖像分辨率


EVO 能夠與其它設備相關聯(lián)

工作流程自動化和關聯(lián)顯微鏡的好處

 ▲Shuttle & Find 將EVO、光學顯微鏡和數(shù)碼顯微鏡組成一個關聯(lián)的、多模態(tài)工作流程

由于蔡司是各種類型顯微鏡和計量系統(tǒng)的優(yōu)秀供應商, 所以您還可以將EVO 與蔡司其它解決方案相結合,使其功能能夠發(fā)揮得更好。

通過使用Shuttle & Find(蔡司關聯(lián)顯微鏡的軟硬件部分),您可以在(數(shù)碼)光學顯微鏡和 EVO 之間建立一個高效的多模式聯(lián)用的工作流程。將光學顯微鏡的光學對比方法與同樣的掃描電鏡成像和分析方法相結合, 獲得互補的數(shù)據(jù), 從而更清楚地去了解樣品的材料、質量或失效機理。

德國蔡司ZEISS鎢燈絲掃描電子顯微鏡

型號:EVO 10
EVO系列電鏡是高性能、功能強大的高分辨應用型掃描電子顯微鏡。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術級的物鏡設計,提供高低真空成像功能,可對各種材料表面作分析,并且具有業(yè)界的X射線分析技術。革命性的Beamsleeve的設計,確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像,同時還可以進行準確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動控制。標準的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護)成像分析。
 掃描電鏡(SEM)廣泛地應用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機械加工)和非金屬材料(化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。
 鎢燈絲掃描電子顯微鏡EV0 10技術參數(shù)

1、光學系統(tǒng)

1.1、發(fā)射源:鎢燈絲。可選擇普通燈絲或預對中式燈絲。具有自動電子槍啟動,自動對中,自動選擇電子槍偏壓功能。

1.2、聚焦:具有手動及自動聚焦功能。

1.3、光闌:三級可調物鏡光闌,能快速對光闌孔定位,并可作電子束自動對中。

1.4、加速電壓:0.2 - 30kV10V步進連續(xù)可調。

1.5電子束位移:±20µm。

1.6、放大倍數(shù):7 - 1,000,000×

1.7、分辨率:3.0nm @ 30kV(SE)

             8.0nm @ 3kV(SE)

1.8、探針電流范圍:0.5 pA - 5 μA,連續(xù)可調。

2、真空系統(tǒng)

2.1、真空泵系統(tǒng):渦輪分子泵+機械泵,不需要冷卻水。

2.2、真空度:真空度:優(yōu)于2×10-4Pa;

2.3、抽真空時間:小于3分鐘。

3、樣品室

3.1、樣品室類型:高剛性、圓形、厚壁,大樣品室。

3.2、樣品室內部尺寸:310mm(φ)×220mmh)。

3.3、可放置的樣品尺寸:直徑230mm,高度100mm

3.4、允許樣品重量:不小于5kg。

3.5、樣品臺移動方式:5軸電動計算機優(yōu)中心。

3.6、樣品臺移動范圍:X=80mm, Y=100mm, Z=35mm, T= -10° - 90°, R =360°。

3.7、樣品臺具有接觸報警與自動停止功能。

3.8、具備樣品位置感知功能。

3.9、X射線分析條件:出射角 35度;

4.0、分析工作距離:8.5 – 20 mm。

4、探測、成像系統(tǒng)

4.1、高真空二次電子探測器。

4.2、背散射電子探測器(選配)。

4.3、具有X射線能譜儀接口。

4.4、探測器成像模式:同時對二次電子和背散射電子成像,可用分屏方式同時顯示兩種圖像,并可在一種圖像中任意位置顯示另外一種圖像。

4.5、掃描方式:全屏、選區(qū)、定點、線掃描、線輪廓、掃描旋轉、傾斜補償。

4.6、整機系統(tǒng)控制要求獨立控制單元,為檢修提供方便。

4.7、圖像解析度:32k x 24k像素()。

4.8、圖像控制:電子光學性能與易用性相結合的OptiBeam模式(分辨率模式、景深模式、分析模式、視場模式)。

4.9、操作系統(tǒng):Windows 7,靈活易用的SmartSEM掃描電鏡操作控制軟件。

4.10、顯示器:24" TFT

可選附件

電鏡可選附件用于增強和拓展電子顯微鏡功能,具體產品涵蓋了從樣品制備到成像、分析等所有步驟的需求。應用范圍包括材料科學、生命科學、地球物理學、電子學,能源科學等領域。

產品類別

產品名稱

產品簡介

分析設備

能譜儀

檢測特征X射線能量,稱為能量色散譜儀Energy Dispersive Spectroscopy,簡稱能譜儀EDS)。主要是材料微區(qū)化學成分進行定性及定量分析,可以用于金屬、高分子、陶瓷、混凝土、生物、礦物、纖維等無機或有機固體材料分析等。例如:在掃描電鏡下可以結合夾雜物形態(tài)成分進行分析;固體材料的表面涂層、鍍層進行分析;結合EBSD對未知材料進行相鑒定等。

波譜儀

利用晶體衍射分光檢測感興趣的特征X射線波長,稱為波長色散譜儀(Wavelength Dispersive Spectroscopy),簡稱波譜儀(WDS。與能譜儀相比,波譜儀能量分辨率高,可以將能量非常接近的譜線區(qū)分開,同時具有更低的元素檢測限,檢測元素含量至0.1‰。

背散射電子衍射探測器

電子背散射衍射(Electron Backscatter Diffraction,簡稱EBSD技術,是基于掃描電鏡中電子束在傾斜樣品表面激發(fā)形成的衍射菊池帶的分析,從而確定晶體結構、取向、晶界類型、微織構組成及應變分布等相關信息,是快速而準確的獲得晶體取向信息的強有力的分析工具。EBSD技術可用于各種晶體材料——金屬、陶瓷、半導體、地質、礦石的分析,結合形貌、能譜信息,可以解決在形變、再結晶、相變、斷裂、腐蝕過程的問題。

加熱臺

掃描電鏡高溫加熱臺可以動態(tài)地觀察溫度變化時材料微觀組織、結構的變化及失效分析,通入氣體可進行高溫氣體反應的觀察,結合EBSD可進行不同溫度下原位EBSD實驗,用于觀察晶體材料的相變過程、再結晶形核及長大過程、晶界處的變化等。Gatan系列的加熱臺具有溫度精度高、穩(wěn)定性好、結構緊湊、樣品座方便拆卸等優(yōu)點。被廣泛應用于液晶檢測、半導體、高分子材料、流體包裹體、生物工程等眾多領域,在冶金材料領域,結合EBSD進行再結晶及相變過程的觀察等。

冷凍臺

低溫氮氣制冷樣品臺模塊,可安裝在現(xiàn)有的SEM 樣品臺上。廣泛應用于:電子束敏感材料-如高分子、地質樣品、低溫冷卻后可做微量分析;半導體材料及超導材料-研究低溫相及性能;陰極發(fā)光及EBIC應用。




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